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在半導(dǎo)體制造中，plasma清洗機是一種非常重要的設(shè)備，用于清潔和處理半導(dǎo)體器件表面，以確保器件的質(zhì)量和性能。利用高能離子和活性氣體來去除表面的有機和無機雜質(zhì)，同時可以改變表面的化學(xué)性質(zhì)，從而提高器件的性能。在半導(dǎo)體制造中，plasma清洗機主要用于以下幾個方面：1、清洗表面：在半導(dǎo)體器件的制造過程中，表面往往會被污染或覆蓋有氧化物等雜質(zhì)。這些雜質(zhì)會影響器件......
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DimensionFastScanTM原子力顯微鏡（AtomicForceMicroscope，AFM），在不損失DimensionIcon超高的分辨率的儀器性能前提下，大限度的提高了成像速度。這項突破性的技術(shù)創(chuàng)新，從根本上解決了AFM成像速度慢的難題，大大縮短了各技術(shù)水平的AFM用戶獲得數(shù)據(jù)的時間。有需要購買Bruk......
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diener真空等離子清洗機是一種先進(jìn)的表面處理設(shè)備，它主要利用等離子體技術(shù)對材料表面進(jìn)行清潔、活化和涂層。其應(yīng)用領(lǐng)域非常廣泛，涵蓋了多個行業(yè)和領(lǐng)域。以下是一些主要的應(yīng)用領(lǐng)域：1、半導(dǎo)體制造：在半導(dǎo)體制造過程中，diener真空等離子清洗機可以用于去除晶圓表面的有機污染物、氧化物和其他雜質(zhì)，以提高芯片的性能和可靠性。此......
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低溫等離子處理設(shè)備主要利用低溫等離子體技術(shù)，通過高壓電場使氣體分子電離，產(chǎn)生大量的高能電子和正負(fù)離子。這些高能電子和離子與廢氣中的污染物分子發(fā)生碰撞，使其分解、氧化或還原，從而達(dá)到凈化廢氣的目的。低溫等離子處理設(shè)備在工業(yè)中的應(yīng)用非常廣泛，主要包括以下幾個方面：1、表面改性：它可以用于改變材料的表面性質(zhì)，如提高親水性、疏......
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bruker新款臺式探針式輪廓儀DektakPro介紹2024年9月10日——bruker公司宣布推出DektakProTM探針式輪廓儀，Dektak®產(chǎn)品線中的下一代輪廓儀。新的臺式系統(tǒng)融合了超過55年的創(chuàng)新成果，為半導(dǎo)體應(yīng)用提供了高達(dá)200毫米的全尺寸樣品測量區(qū)域，并通過改善用戶體驗和測量精度縮短了獲得結(jié)果......
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